FORMING HALOGEN-DOPED DIELECTRIC FILMS

One example provides a method of forming a halogen-doped dielectric film. The method comprises forming a dielectric film comprising a plurality of dielectric film layers. The method further comprises performing a plasma doping process after forming the dielectric film. The plasma doping process comprises introducing a halogen-containing precursor into a plasma, and exposing the dielectric film to reactive halogen-containing species generated in the plasma from the halogen-containing precursor, thereby forming the halogen-doped dielectric film. Un exemple concerne un procédé de formation d'un film diélectrique dopé par halogène. Le procédé comprend la formation d'un film diélectrique comprenant une pluralité de couches de film diélectrique. Le procédé comprend en outre la réalisation d'un processus de dopage au plasma après la formation du film diélectrique. Le procédé de dopage au plasma comprend l'introduction d'un précurseur contenant un halogène dans un plasma, et l'exposition du film diélectrique à des espèces contenant un halogène réactif générées dans le plasma à partir du précurseur contenant un halogène, formant ainsi le film diélectrique dopé par halogène.