TUNABLE HARDWARE TO CONTROL RADIAL FLOW DISTRIBUTION IN A PROCESSING CHAMBER

Gas distribution assemblies comprising a backing plate, a first enclosure with an outer diameter smaller than an outer diameter of an opening in the center of the backing plate. A top plate is connected to the top of the first enclosure. A compressible seal surrounds the first enclosure connecting the top plate to the backing plate outside the opening in the backing plate. An actuator is connected to the backing plate and the top plate to move the top plate closer to and further from the backing plate. A plunger extends through the opening in the center of the first enclosure. Methods of controlling a flow profile are also disclosed. L'invention concerne des ensembles de distribution de gaz comprenant une plaque de support, une première enceinte ayant un diamètre externe plus petit qu'un diamètre externe d'une ouverture au centre de la plaque de support. Une plaque supérieure est reliée à la partie supérieure de la première enceinte. Un joint compressible entoure la première enceinte reliant la plaque supérieure à la plaque de support à l'extérieur de l'ouverture dans la plaque de support. Un actionneur est relié à la plaque de support et à la plaque supérieure pour déplacer la plaque supérieure plus près de la plaque de support et plus loin de celle-ci. Un piston s'étend à travers l'ouverture au centre de la première enceinte. L'invention concerne également des procédés de commande d'un profil d'écoulement.