LOWER PLASMA EXCLUSION ZONE RING FOR CONTROLLING PLASMA DEPOSITION OR ETCHING NEAR A SUBSTRATE NOTCH

LOWER PLASMA EXCLUSION ZONE RING FOR CONTROLLING PLASMA DEPOSITION OR ETCHING NEAR A SUBSTRATE NOTCH

A lower plasma exclusion zone ring for a substrate processing chamber includes an annular body including a radially inner surface, a radially outer surface, an upper surface, and a lower surface. A plasma exclusion zone (PEZ) ring notch is arranged on the upper surface and the radially outer surface...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KIM, Keechan, KATAILIHA, Anand, BRAVO, Andrew Stratton, BEHERA, Asit Kumar
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
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Beschreibung
Zusammenfassung:A lower plasma exclusion zone ring for a substrate processing chamber includes an annular body including a radially inner surface, a radially outer surface, an upper surface, and a lower surface. A plasma exclusion zone (PEZ) ring notch is arranged on the upper surface and the radially outer surface of the annular body. La présente invention concerne un anneau de zone d'exclusion de plasma inférieur pour une chambre de traitement de substrat qui comprend un corps annulaire comprenant une surface radialement interne, une surface radialement externe, une surface supérieure et une surface inférieure. Une encoche annulaire de zone d'exclusion de plasma (PEZ) est disposée sur la surface supérieure et la surface radialement externe du corps annulaire.