(METH)ACRYLIC RESIN
Provided is a (meth)acrylic resin containing structural units of formulae (2) and (3). In formula (2), R3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R4 represents a group that has a hydroxy group on a carbon atom and that has, on a carbon atom adjacent to said carbon atom, a residue obtained...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Provided is a (meth)acrylic resin containing structural units of formulae (2) and (3). In formula (2), R3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R4 represents a group that has a hydroxy group on a carbon atom and that has, on a carbon atom adjacent to said carbon atom, a residue obtained by removing a hydrogen atom from a carboxy group of an unsaturated monocarboxylic acid. In formula (3), R5 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R6 represents a group that has, on a carbon atom, a residue obtained by removing a hydrogen atom from a carboxyl group of an unsaturated monocarboxylic acid and that has, on a carbon atom adjacent to said carbon atom, a residue obtained by removing a hydrogen atom from a carboxyl group of an unsaturated monocarboxylic acid.
L'invention concerne une résine (méth)acrylique contenant des unités structurales de formules (2) et (3). Dans la formule (2), R3 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle, et R4 représente un groupe qui a un groupe hydroxy sur un atome de carbone et qui a, sur un atome de carbone adjacent audit atome de carbone, un résidu obtenu par élimination d'un atome d'hydrogène d'un groupe carboxy d'un acide monocarboxylique insaturé. Dans la formule (3), R5 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle, et R6 représente un groupe qui a, sur un atome de carbone, un résidu obtenu par élimination d'un atome d'hydrogène d'un groupe carboxyle d'un acide monocarboxylique insaturé et qui a, sur un atome de carbone adjacent audit atome de carbone, un résidu obtenu par élimination d'un atome d'hydrogène d'un groupe carboxyle d'un acide monocarboxylique insaturé.
式(2)及び(3)の構造単位を含有する(メタ)アクリル樹脂。式(2)中、R3は水素原子又はメチル基を表し、R4は炭素原子上にヒドロキシ基を有し、該炭素原子に隣接する炭素原子上に不飽和モノカルボン酸のカルボキシ基から水素原子を除いた残基を有する基を表し、式(3)中、R5は水素原子又はメチル基を表し、R6は炭素原子上に不飽和モノカルボン酸のカルボキシ基から水素原子を除いた残基を有し、該炭素原子に隣接する炭素原子上に不飽和モノカルボン酸のカルボキシ基から水素原子を除いた残基を有する基を表す。 |
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