ARTIFACT DETECTION AND INPAINTING IN MULTI-PLANE IMAGES

A method of inpainting a multi-plane image (MPI) includes warping each of N MPIs to a novel camera location to yield N warped-MPIs, each of which corresponds to a respective one of N camera locations. The MPI includes a first MPI, of the N MPIs, corresponding to a first location of the N camera loca...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SU, Guan-Ming, LAZRI, Zachary McBride
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method of inpainting a multi-plane image (MPI) includes warping each of N MPIs to a novel camera location to yield N warped-MPIs, each of which corresponds to a respective one of N camera locations. The MPI includes a first MPI, of the N MPIs, corresponding to a first location of the N camera locations. The N warped-MPIs include (N-1) neighboring warped-MPIs and a first warped-MPI derived from the first MPI. The method also includes: inpainting a warped artifact-region of the first warped-MPI using a best-fit warped-image of the (N-1) neighboring warped-MPIs to yield an inpainted warped-MPI; warping the inpainted warped-MPI back to the first location to yield an inpainted MPI; and updating the first MPI by replacing artifact MPI data with inpainted data of the inpainted MPI mapped to the non-warped artifact-region. Un procédé de retouche d'une image multiplan (MPI) consiste à déformer chacune de N MPI à un nouvel emplacement de caméra pour produire N MPI déformées, dont chacune correspond à l'un respectif de N emplacements de caméra. La MPI comprend une première MPI, des N MPI, correspondant à un premier emplacement des N emplacements de caméra. Les N MPI déformées comprennent (N-1) MPI déformées voisines, et une première MPI déformée dérivée de la première MPI. Le procédé consiste également à : retoucher une région d'artéfact déformée de la première MPI déformée, à l'aide d'une image déformée d'ajustement optimal des (N-1) MPI déformées voisines, pour produire une MPI déformée retouchée ; déformer la MPI déformée retouchée, en retour au premier emplacement, pour produire une MPI retouchée ; et mettre à jour la première MPI en remplaçant des données de MPI d'artéfact par des données retouchée de la MPI retouchée mappées sur la région d'artéfact non déformée.