SYSTEM AND METHODS FOR IMPLEMENTING A MICRO PULSING SCHEME USING DUAL INDEPENDENT PULSERS

Embodiments of the disclosure provided herein include an apparatus and method for processing a substrate in a plasma processing system. The apparatus includes a pulse voltage (PV) waveform generator comprising at least one synchronization signal and a plurality of pulsers to provide a plurality of TTL inputs. The PV waveform generator generates a waveform containing pulses or bursts which contain micropulses corresponding to the plurality of TTL input signals and the at least one synchronization signal. The method includes receiving a first TTL input signal and a synchronization waveform signal from a controller, delivering a first micropulse to an electrode assembly after receiving the first TTL input signal and synchronization signal, and delivering a second micropulse to the electrode assembly after receiving the second TTL input signal and the synchronization signal. Des modes de réalisation de la divulgation concernent un appareil et un procédé de traitement d'un substrat dans un système de traitement au plasma. L'appareil comprend un générateur de forme d'onde de tension d'impulsion (PV) comprenant au moins un signal de synchronisation et une pluralité de générateurs d'impulsions pour fournir une pluralité d'entrées TTL. Le générateur de forme d'onde de PV génère une forme d'onde contenant des impulsions ou des rafales qui contiennent des micro-impulsions correspondant à la pluralité de signaux d'entrée TTL et ledit signal de synchronisation. Le procédé comprend la réception d'un premier signal d'entrée TTL et d'un signal de forme d'onde de synchronisation en provenance d'un dispositif de commande, la distribution d'une première micro-impulsion à un ensemble d'électrodes après la réception du premier signal d'entrée TTL et du signal de synchronisation, et la distribution d'une seconde micro-impulsion à l'ensemble d'électrodes après la réception du second signal d'entrée TTL et du signal de synchronisation.