METHOD FOR SETTING UP A CVD REACTOR
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorhersage der Änderung von Werten (λ i ) einer Schichteigenschaft oder einer lokalen Größe an einem Lagerplatz (5'), an dem eine Schicht auf einem Substrat (7) abgeschieden wird. Wird ein individueller Behandlungsparameter (q i ) an einem Lagerplatz (5&...
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Hauptverfasser: | , , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
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Zusammenfassung: | Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorhersage der Änderung von Werten (λ i ) einer Schichteigenschaft oder einer lokalen Größe an einem Lagerplatz (5'), an dem eine Schicht auf einem Substrat (7) abgeschieden wird. Wird ein individueller Behandlungsparameter (q i ) an einem Lagerplatz (5') geändert, so ändern sich nicht nur auf den individuellen Parameter (q i ) am Lagerplatz (5') zurückzuführende Werte, sondern auch die Werte (λ i ) an anderen Lagerplätzen (5'). Das Verfahren schlägt das Abscheiden von Startschichten mit individuellen Startparametern, Formula (I), (I) vor und das Abscheiden von Testschichten mit davon verschiedenen Testparametern, Formula (I), (I). Aus ermittelten Startwerten Formula (II), (II), und Testwerten, Formula (III), (III), kann eine Empfindlichkeitsmatrix (S i,j ) gebildet werden, deren Elemente jeweils den Einfluss einer Änderung eines jeden der individuellen Parameter (q i ) auf jeden der Werte (λ i ) der Schichteigenschaft oder lokalen Größe angeben. Durch Invertieren der Empfindlichkeitsmatrix (S i,j ) können auch Korrekturparameter (Δq i ) berechnet werden, um individuelle Parameter (q i ) voreinzustellen, mit denen vorgegebene Zielwerte, Formula (IV), (IV), erreicht werden können.
The invention relates to a method for predicting a change in values λ i ) of a layer property or a local variable at a storage location (5') at which a layer is deposited on a substrate (7). If an individual treatment parameter (q i ) at a storage location (5') is changed, not only do values that are attributable to the individual parameters (q i ) at the storage location (5') change, but so do the values (λ i ) at other storage locations (5'). The method proposes depositing starting layers having individual starting parameters, formula (I), (I), and depositing test layers having test parameters, formula (I), (I), that are different therefrom. From detected starting values, formula (II), (II), and test values, formula (III), (III), a sensitivity matrix (S i,j ) can be formed of which the elements each indicate the influence of a change in each of the individual parameters (q i ) on each of the values (λ i ) of the layer property or local variable. By inverting the sensitivity matrix (S i,j ), correction parameters (Δq i ) can also be calculated in order to pre-set individual parameters (q i ), by means of which specified target values, formula (IV), (IV), can be achieved.
L'invention concerne un procédé permettant de prédire la modification |
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