METAL-INSULATOR-METAL (MIM) CAPACITORS WITH CURVED ELECTRODE

A method for making a metal-insulator-metal (MIM) capacitors by etching a dielectric layer to form a via or contact hole, a tub, and a trench in the dielectric layer; depositing conformal metal in the via or contact hole, the tub, and the trench, wherein deposited conformal metal forms a via or contact in the via or contact hole; depositing a bottom electrode metal in the tub to form a bottom electrode of a metal-to-metal (MIM) capacitor; removing bottom electrode metal from the bottom electrode to form a dish-shape upper surface; depositing an insulator material on the bottom electrode to form an insulator layer of the MIM capacitor; and depositing a top electrode metal on the insulator layer to form a top electrode of the MIM capacitor. Procédé de fabrication de condensateurs métal-isolant-métal (MIM) par gravure d'une couche diélectrique pour former un trou d'interconnexion ou de contact, une cuve et une tranchée dans la couche diélectrique ; par dépôt d'un métal conforme dans le trou d'interconnexion ou de contact, la cuve et la tranchée, le métal conforme déposé formant un trou d'interconnexion ou un contact dans le trou d'interconnexion ou de contact ; dépôt d'un métal d'électrode inférieure dans la cuve pour former une électrode inférieure d'un condensateur métal sur métal (MIM) ; élimination du métal d'électrode inférieure de l'électrode inférieure pour former une surface supérieure en forme de cuvette ; dépôt d'un matériau isolant sur l'électrode inférieure pour former une couche isolante du condensateur MIM ; et dépôt d'un métal d'électrode supérieure sur la couche isolante pour former une électrode supérieure du condensateur MIM.