BANDPASS MASS FILTER

A bandpass mass filter comprising: a multipole ion guide; a first RF voltage supply configured to apply a first RF voltage to electrodes of the multipole ion guide for generating an electric field for radially confining ions within the multipole ion guide; and a second RF voltage supply configured t...

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Hauptverfasser: LANGRIDGE, David J, GORDON, David
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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creator LANGRIDGE, David J
GORDON, David
description A bandpass mass filter comprising: a multipole ion guide; a first RF voltage supply configured to apply a first RF voltage to electrodes of the multipole ion guide for generating an electric field for radially confining ions within the multipole ion guide; and a second RF voltage supply configured to apply a second, different RF voltage to electrodes of the bandpass mass filter, wherein a first phase of the second RF voltage is applied to a first pair of opposing electrodes and a second, different phase of the second RF voltage is applied to a second pair of opposing electrodes; wherein the frequency of the second RF voltage is at least 20 times lower than the frequency of the first RF voltage; and wherein the bandpass mass filter is configured to be maintained at a pressure of ≥ 10-4 mbar. Filtre passe-bande de masse comprenant : un guide d'ions multipolaire ; une première tension d'alimentation RF conçue pour appliquer une première tension RF à des électrodes du guide d'ions multipolaire afin de générer un champ électrique permettant de confiner radialement des ions à l'intérieur du guide d'ions multipolaire ; et une seconde tension d'alimentation RF conçue pour appliquer une seconde tension RF différente aux électrodes du filtre passe-bande de masse, une première phase de la seconde tension RF étant appliquée à une première paire d'électrodes opposées, et une seconde phase différente de la seconde tension RF étant appliquée à une seconde paire d'électrodes opposées ; la fréquence de la seconde tension RF étant au moins 20 fois inférieure à la fréquence de la première tension RF ; et le filtre passe-bande de masse étant conçu pour être maintenu à une pression de ≥ 10-4 mbar.
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Filtre passe-bande de masse comprenant : un guide d'ions multipolaire ; une première tension d'alimentation RF conçue pour appliquer une première tension RF à des électrodes du guide d'ions multipolaire afin de générer un champ électrique permettant de confiner radialement des ions à l'intérieur du guide d'ions multipolaire ; et une seconde tension d'alimentation RF conçue pour appliquer une seconde tension RF différente aux électrodes du filtre passe-bande de masse, une première phase de la seconde tension RF étant appliquée à une première paire d'électrodes opposées, et une seconde phase différente de la seconde tension RF étant appliquée à une seconde paire d'électrodes opposées ; la fréquence de la seconde tension RF étant au moins 20 fois inférieure à la fréquence de la première tension RF ; et le filtre passe-bande de masse étant conçu pour être maintenu à une pression de ≥ 10-4 mbar.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRICITY ; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES ; MEASURING ; PHYSICS ; TESTING</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240516&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2024100384A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,309,782,887,25571,76555</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240516&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2024100384A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>LANGRIDGE, David J</creatorcontrib><creatorcontrib>GORDON, David</creatorcontrib><title>BANDPASS MASS FILTER</title><description>A bandpass mass filter comprising: a multipole ion guide; a first RF voltage supply configured to apply a first RF voltage to electrodes of the multipole ion guide for generating an electric field for radially confining ions within the multipole ion guide; and a second RF voltage supply configured to apply a second, different RF voltage to electrodes of the bandpass mass filter, wherein a first phase of the second RF voltage is applied to a first pair of opposing electrodes and a second, different phase of the second RF voltage is applied to a second pair of opposing electrodes; wherein the frequency of the second RF voltage is at least 20 times lower than the frequency of the first RF voltage; and wherein the bandpass mass filter is configured to be maintained at a pressure of ≥ 10-4 mbar. Filtre passe-bande de masse comprenant : un guide d'ions multipolaire ; une première tension d'alimentation RF conçue pour appliquer une première tension RF à des électrodes du guide d'ions multipolaire afin de générer un champ électrique permettant de confiner radialement des ions à l'intérieur du guide d'ions multipolaire ; et une seconde tension d'alimentation RF conçue pour appliquer une seconde tension RF différente aux électrodes du filtre passe-bande de masse, une première phase de la seconde tension RF étant appliquée à une première paire d'électrodes opposées, et une seconde phase différente de la seconde tension RF étant appliquée à une seconde paire d'électrodes opposées ; la fréquence de la seconde tension RF étant au moins 20 fois inférieure à la fréquence de la première tension RF ; et le filtre passe-bande de masse étant conçu pour être maintenu à une pression de ≥ 10-4 mbar.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</subject><subject>MEASURING</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZBBxcvRzCXAMDlbwBRFunj4hrkE8DKxpiTnFqbxQmptB2c01xNlDN7UgPz61uCAxOTUvtSQ-3N_IwMjE0MDA2MLE0dCYOFUA6KofYQ</recordid><startdate>20240516</startdate><enddate>20240516</enddate><creator>LANGRIDGE, David J</creator><creator>GORDON, David</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240516</creationdate><title>BANDPASS MASS FILTER</title><author>LANGRIDGE, David J ; GORDON, David</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2024100384A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2024</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</topic><topic>MEASURING</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>TESTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>LANGRIDGE, David J</creatorcontrib><creatorcontrib>GORDON, David</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>LANGRIDGE, David J</au><au>GORDON, David</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>BANDPASS MASS FILTER</title><date>2024-05-16</date><risdate>2024</risdate><abstract>A bandpass mass filter comprising: a multipole ion guide; a first RF voltage supply configured to apply a first RF voltage to electrodes of the multipole ion guide for generating an electric field for radially confining ions within the multipole ion guide; and a second RF voltage supply configured to apply a second, different RF voltage to electrodes of the bandpass mass filter, wherein a first phase of the second RF voltage is applied to a first pair of opposing electrodes and a second, different phase of the second RF voltage is applied to a second pair of opposing electrodes; wherein the frequency of the second RF voltage is at least 20 times lower than the frequency of the first RF voltage; and wherein the bandpass mass filter is configured to be maintained at a pressure of ≥ 10-4 mbar. Filtre passe-bande de masse comprenant : un guide d'ions multipolaire ; une première tension d'alimentation RF conçue pour appliquer une première tension RF à des électrodes du guide d'ions multipolaire afin de générer un champ électrique permettant de confiner radialement des ions à l'intérieur du guide d'ions multipolaire ; et une seconde tension d'alimentation RF conçue pour appliquer une seconde tension RF différente aux électrodes du filtre passe-bande de masse, une première phase de la seconde tension RF étant appliquée à une première paire d'électrodes opposées, et une seconde phase différente de la seconde tension RF étant appliquée à une seconde paire d'électrodes opposées ; la fréquence de la seconde tension RF étant au moins 20 fois inférieure à la fréquence de la première tension RF ; et le filtre passe-bande de masse étant conçu pour être maintenu à une pression de ≥ 10-4 mbar.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
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