FOLDABLE SUBSTRATES, FOLDABLE APPARATUS, AND METHODS OF MAKING

In aspects, a concentration of lithium oxide at a surface is greater than a concentration of lithium oxide at a midpoint by from about 0.2 mol% to about 2 mol%. In aspects, a concentration of lithium oxide at a surface is from about 0.2 mol% to about 2 mol%. In aspects, a total concentration of pota...

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Hauptverfasser: AGNELLO, Gabriel Pierce, SCHNEIDER, Vitor Marino, TRACY, Ian David, BANERJEE, Joy
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:In aspects, a concentration of lithium oxide at a surface is greater than a concentration of lithium oxide at a midpoint by from about 0.2 mol% to about 2 mol%. In aspects, a concentration of lithium oxide at a surface is from about 0.2 mol% to about 2 mol%. In aspects, a total concentration of potassium oxide, rubidium oxide, cesium oxide, and francium oxide at a surface is from about 5 mol% to about 15 mol%. In aspects, a ratio of the total concentration of potassium oxide, rubidium oxide, cesium oxide, and francium oxide at a surface to a concentration of lithium oxide at the surface is from about 1 to about 20. Methods include immersing a substrate in a molten salt bath at 380°C or more for from about 1 minute to about 10 minutes or for from about 3 minutes to about 2 hours. Dans certains aspects, une concentration d'oxyde de lithium à une surface est supérieure à une concentration d'oxyde de lithium en un point médian d'environ 0,2 % en moles à environ 2 % en moles. Dans certains aspects, une concentration d'oxyde de lithium à une surface est d'environ 0,2 % en moles à environ 2 % en moles. Dans certains aspects, une concentration totale d'oxyde de potassium, d'oxyde de rubidium, d'oxyde de césium et d'oxyde de francium à une surface est d'environ 5 % en moles à environ 15 % en moles. Dans certains aspects, un rapport de la concentration totale d'oxyde de potassium, d'oxyde de rubidium, d'oxyde de césium et d'oxyde de francium à une surface à une concentration d'oxyde de lithium à la surface est d'environ 1 à environ 20. Les procédés comprennent l'immersion d'un substrat dans un bain de sel fondu à 380°C ou plus pendant environ 1 minute à environ 10 minutes ou pendant environ 3 minutes à environ 2 heures.