HEAT FLOW CONTROL IN A PROCESSING TOOL
An apparatus comprises an electrostatic chuck including a plate electrode and a column structure coupled with the plate electrode. A disk is coupled with the electrostatic chuck where the disk includes a first hole in a center of the disk and a second hole and a third hole distributed through the di...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | An apparatus comprises an electrostatic chuck including a plate electrode and a column structure coupled with the plate electrode. A disk is coupled with the electrostatic chuck where the disk includes a first hole in a center of the disk and a second hole and a third hole distributed through the disk, where a portion of the column structure extends through the first hole. The apparatus further includes retention structures, wherein the retention structures individually include a shaft and a nut coupled with the shaft and the disk. The shaft extends through the second hole or the third hole and couples with a surface of the plate electrode.
L'invention concerne un appareil comprenant un mandrin électrostatique comprenant une électrode à plaque et une structure de colonne couplée à l'électrode à plaque. Un disque est couplé au mandrin électrostatique, le disque comprenant un premier trou dans un centre du disque et un deuxième trou et un troisième trou répartis à travers le disque, une partie de la structure de colonne s'étendant à travers le premier trou. L'appareil comprend en outre des structures de retenue, les structures de retenue comprenant individuellement un arbre et un écrou accouplé à l'arbre et au disque. L'arbre s'étend à travers le deuxième trou ou le troisième trou et se couple à une surface de l'électrode à plaque. |
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