TIME-RESOLVED OES DATA COLLECTION

A method of processing a substrate that includes: exposing the substrate in a plasma processing chamber to a plasma powered by applying a first power to a first electrode of a plasma processing chamber; turning OFF the first power to the first electrode after the first time duration; while the first power is OFF, applying a second power to a second electrode of the plasma processing chamber for a second time duration, the second time duration being shorter than the first time duration, an energy of the second power over the second time duration is less than an energy of the first power over the first time duration by a factor of at least 2; and detecting an optical emission spectrum (OES) from species in the plasma processing chamber. Procédé de traitement d'un substrat qui consiste à : exposer le substrat dans une chambre de traitement au plasma à un plasma alimenté par application d'une première puissance à une première électrode d'une chambre de traitement au plasma ; couper la première puissance à la première électrode après la première durée ; tandis que la première puissance est coupée, appliquer une seconde puissance à une seconde électrode de la chambre de traitement au plasma pendant une seconde durée, la seconde durée étant plus courte que la première durée, une énergie de la seconde puissance sur la seconde durée étant inférieure à une énergie de la première puissance sur la première durée d'un facteur d'au moins 2 ; et détecter un spectre d'émission optique (OES) à partir d'espèces dans la chambre de traitement au plasma.