MULTILAYER PROTECTIVE STRUCTURE IN AN IMPLANTABLE OPTICAL SENSOR

An implantable optical sensor comprising: at least one optical microstructure configured for evanescent field sensing, the at least one optical microstructure being positioned to form an optical interaction area on a part of a surface of the implantable optical sensor, characterised in that the implantable optical sensor further comprises a multilayer protective structure covering at least the optical interaction area, the multilayer protective structure comprising a hafnia layer deposited on an alumina layer. A method of manufacturing an implantable optical sensor. A use of a multilayer protective structure for protecting an implantable optical sensor. L'invention concerne un capteur optique implantable comprenant : au moins une microstructure optique configurée pour la détection de champs évanescents, ladite au moins une microstructure optique étant positionnée pour former une zone d'interaction optique sur une partie d'une surface du capteur optique implantable, caractérisé en ce que le capteur optique implantable comprend en outre une structure de protection multicouche couvrant au moins la zone d'interaction optique, la structure de protection multicouche comprenant une couche d'hafnia déposée sur une couche d'alumine. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un capteur optique implantable. L'invention concerne en outre l'utilisation d'une structure de protection multicouche pour protéger un capteur optique implantable.