ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN-FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD

The present invention addresses the problem of providing an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition from which a resist pattern having a small LWR can be formed. An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition according to the present invention comprises: a resin of which the polarity increases due to the action of an acid; a photoacid generator that includes an anion and a cation and generates an acid when irradiated with an actinic ray or radiation; a first acid diffusion control agent including a first anion and a first cation; and a second acid diffusion control agent including a second anion and a second cation. The first anion has a predetermined alicyclic structure that includes multiple rings and is optionally substituted. The ClogP value of the first anion is at most -1.50. The volume of the second anion is greater than that of the first anion. The volume of the second anion is at least 250 Å3. La présente invention aborde le problème consistant à fournir une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou au rayonnement qui permet de former un motif de réserve ayant une faible LWR. Selon la présente invention, une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou au rayonnement comprend : une résine dont la polarité augmente en raison de l'action d'un acide ; un générateur de photoacide qui comprend un anion et un cation et qui génère un acide lorsqu'il est irradié avec un rayon actinique ou un rayonnement ; un premier agent de régulation de diffusion d'acide comprenant un premier anion et un premier cation ; et un second agent de régulation de diffusion d'acide comprenant un second anion et un second cation. Le premier anion a une structure alicyclique prédéterminée qui comprend de multiples cycles et qui est facultativement substituée. La valeur ClogP du premier anion est d'au plus -1,50. Le volume du second anion est supérieur à celui du premier anion. Le volume du second anion est d'au moins 250 Å3. 本発明は、ＬＷＲが小さいレジストパターンを形成可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供することを課題とする。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により極性が増大する樹脂と、アニオンとカチオンとからなり、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する光酸発生剤と、第１アニオンと第１カチオンとからなる第１酸拡散制御剤と、第２アニオンと第２カチオンとからなる第２酸拡散制御剤と、を含み、第１アニオンが置換基を有していてもよい所定の多環の脂環構造を有し、第１アニオンのＣｌｏｇＰ値が－１．５０以下であり、第２アニオンの体積が第１アニオンの体積よりも大きく、第２アニオンの体積が２５０Å３以上である。