GENERATION OF SYNTHETIC SEMICONDUCTOR IMAGES

Methods, systems, and media for generating synthetic semiconductor image data are provided. In some embodiments, a method comprises generating a set of synthetic segmented images, each synthetic segmented image of the set of synthetic segmented images representing a segmented semiconductor metrology...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: AGUSANTO, Kusuma, GOWDA, Shiva Prasad Mare, LEE, Yan Kang, ALDEN, Emily Ann
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Methods, systems, and media for generating synthetic semiconductor image data are provided. In some embodiments, a method comprises generating a set of synthetic segmented images, each synthetic segmented image of the set of synthetic segmented images representing a segmented semiconductor metrology image. The method may comprise generating, using a first trained GAN, a set of virtual images, each virtual image corresponding to one of the synthetic segmented images in the set of synthetic segmented images. The method may comprise constructing a training set comprising a plurality of training samples, each training sample comprising a synthetic segmented image from the set of synthetics segmented images and a corresponding virtual image from the set of virtual images, wherein the training set is usable to train a downstream model configured to model semiconductor fabrication processes. L'invention concerne des procédés, des systèmes et des supports de génération de données d'image de semi-conducteur synthétiques. Dans certains modes de réalisation, un procédé consiste à générer un ensemble d'images segmentées synthétiques, chaque image segmentée synthétique de l'ensemble d'images segmentées synthétiques représentant une image de métrologie de semi-conducteur segmentée. Le procédé peut consister à générer, à l'aide d'un premier GAN entraîné, un ensemble d'images virtuelles, chaque image virtuelle correspondant à l'une des images segmentées synthétiques dans l'ensemble d'images segmentées synthétiques. Le procédé peut consister à construire un ensemble d'apprentissage comprenant une pluralité d'échantillons d'apprentissage, chaque échantillon d'apprentissage comprenant une image segmentée synthétique à partir de l'ensemble d'images segmentées synthétiques et une image virtuelle correspondante à partir de l'ensemble d'images virtuelles, l'ensemble d'apprentissage étant utilisable pour entraîner un modèle aval configuré pour modéliser des processus de fabrication de semi-conducteur.