FREQUENCY AND AMPLITUDE MODULATION OF IMPLANT DOSE FOR STRESS MANAGEMENT

Embodiments of the disclosure relate to techniques and apparatus for reducing out-of-plane distortion (OPD) in a substrate, as well as control of the effects of OPD and the effects that the modifications made to the substrate to correct for the OPD have on subsequent substrate processing operations performed on the substrate. The present embodiments employ novel techniques to reduce the OPD in a substrate without adding or modifying portions of the substrate that will create issues in subsequent substrate fabrication processes. Des modes de réalisation de la divulgation concernent des techniques et un appareil pour réduire la distorsion hors plan (OPD) dans un substrat, ainsi que la commande des effets de la distorsion OPD et des effets que les modifications apportées au substrat pour corriger la distorsion OPD ont sur des opérations ultérieures de traitement de substrat effectuées sur le substrat. Les présents modes de réalisation utilisent de nouvelles techniques pour réduire la distorsion OPD dans un substrat sans ajouter ou modifier des parties du substrat qui créeront des problèmes dans des processus ultérieurs de fabrication de substrat.