IMAGING DEVICE, RANGING DEVICE, AND METHOD FOR CONTROLLING IMAGING DEVICE
An imaging device (100) comprises: a first semiconductor layer (170); a unit cell that includes n (n is a natural number) pixels (201) and a charge storage unit (FD) for storing charge generated by the n pixels; and a drive circuit (130). The n pixels each include a photoelectric conversion unit (21...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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Zusammenfassung: | An imaging device (100) comprises: a first semiconductor layer (170); a unit cell that includes n (n is a natural number) pixels (201) and a charge storage unit (FD) for storing charge generated by the n pixels; and a drive circuit (130). The n pixels each include a photoelectric conversion unit (211), a first transfer transistor (221) having a first control terminal (221g), and a second transfer transistor (231) having a second control terminal (231g). The drive circuit (130) supplies a voltage corresponding to one operation mode selected from among a plurality of operation modes to the first semiconductor layer (170) and to the first control terminal (221g) or the second control terminal (231g).
Un dispositif d'imagerie (100) comprend : une première couche semi-conductrice (170) ; une cellule unitaire qui comprend n (n étant un nombre entier naturel) pixels (201) et une unité de stockage de charge (FD) destinée à stocker une charge générée par les n pixels ; et un circuit d'attaque (130). Les n pixels comprennent chacun une unité de conversion photoélectrique (211), un premier transistor de transfert (221) comprenant une première borne de commande (221g), et un second transistor de transfert (231) comprenant une seconde borne de commande (231g). Le circuit d'attaque (130) fournit une tension correspondant à un mode de fonctionnement sélectionné parmi une pluralité de modes de fonctionnement à la première couche semi-conductrice (170) et à la première borne de commande (221g) ou à la seconde borne de commande (231g).
撮像装置(100)は、第1の半導体層(170)と、n個(nは自然数)の画素(201)、及び、n個の画素で発生する電荷を蓄積するための電荷蓄積部(FD)を含む単位セルと、駆動回路(130)と、を備える。n個の画素の各々は、光電変換部(211)と、第1の制御端子(221g)を有する第1の転送トランジスタ(221)と、第2の制御端子(231g)を有する第2の転送トランジスタ(231)と、を含む。駆動回路(130)は、第1の半導体層(170)、又は、第1の制御端子(221g)若しくは第2の制御端子(231g)に、複数の動作モードから選択された1つの動作モードに応じた電圧を供給する。 |
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