MIXED ENERGY CONTROL IN AN EUV LITHOGRAPHY SYSTEM

A system for and method of controlling extreme ultraviolet (EUV) output power in an EUV radiation source in which one control loop controls at least one system variable impacting the power of a drive laser while the drive laser generates laser pulses converting a portion of target material in an irradiation region and another control loop controls a hit/miss firing pattern which determines which laser pulses will strike a portion of target material in the irradiation region and which will not. L'invention concerne un système et un procédé de commande de puissance de sortie d'ultraviolets extrêmes (EUV) dans une source de rayonnement d'EUV dans laquelle une boucle de commande commande au moins une variable de système impactant la puissance d'un laser d'entraînement tandis que le laser d'entraînement génère des impulsions laser convertissant une partie de matériau cible dans une région d'irradiation et une autre boucle de commande commande un motif de déclenchement aléatoire qui détermine quelles impulsions laser frapperont une partie de matériau cible dans la région d'irradiation et celles qui ne le feront pas.