METHOD AND SYSTEM FOR CALIBRATING A CHARGED-PARTICLE SPECTROMETER
The invention relates to a method for calibrating a charged-particle spectrometer (SM), comprising the following steps: A. generating a monochromatic incident charged-particle beam (FP) having a first energy E1; B. generating an incident laser beam (FL) having a second energy E2; C. illuminating a s...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The invention relates to a method for calibrating a charged-particle spectrometer (SM), comprising the following steps: A. generating a monochromatic incident charged-particle beam (FP) having a first energy E1; B. generating an incident laser beam (FL) having a second energy E2; C. illuminating a surface (SE) of a sample (Ech) with the incident laser beam (FL) in order to generate an evanescent electromagnetic field (EV) in a region (R) near the surface; D. spatially and temporally superimposing the incident laser beam and the incident charged-particle beam in said region in order to couple them via the evanescent electromagnetic field by generating a charged-particle beam which is referred to as an output beam (FS) and has a spectrum comprising a plurality of distinct peaks of energies that are spectrally separated by a value equal to the second energy E2; E. measuring, by means of the spectrometer, all or part of the spectrum of the output beam, then determining a variation in energy ΔE of at least two of the distinct energy peaks with respect to the first energy E1; and F. determining a value of the scale factor S and a value of the offset O specific to the measurement of the spectrum of the output beam by means of the spectrometer on the basis of the variations in energy ΔE.
Méthode de calibration d'un spectromètre (SM) pour particules chargées comprenant les étapes suivantes : A. générer un faisceau de particules chargées incident (FP) monochromatique présentant une première énergie E1; B. générer un faisceau laser incident (FL) présentant une deuxième énergie E2; C. illuminer une surface (SE) d'un échantillon (Ech) avec le faisceau laser incident (FL) afin de générer un champ électromagnétique évanescent (EV) dans une région (R) à proximité de ladite surface; D. superposer spatialement et temporellement le faisceau laser incident et le faisceau de particules chargées incident dans ladite région afin de les coupler via ledit champ électromagnétique évanescent en générant un faisceau de particules chargées dit faisceau de sortie (FS) présentant un spectre comprenant une pluralité de pics d'énergies distincts séparés spectralement d'une valeur égale à la deuxième énergie E2; E. mesurer, par le spectromètre, tout ou partie du spectre du faisceau de sortie, puis déterminer une variation d'énergie ΔE d'au moins deux des pics d'énergies distincts par rapport à la première énergie E1; F. déterminer une valeur du facteur d'échelle S et une valeur du décalage |
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