IN-CHAMBER METROLOGY OF SUBSTRATES FOR PROCESS CHARACTERIZATION AND IMPROVEMENT

A method includes receiving, by a processing device, first data generated by a first sensor of a substrate processing system. The first data is generated responsive to the first sensor receiving electromagnetic radiation from a substrate held by a robot arm of a transfer chamber in the substrate processing system. The method further includes processing the first data to obtain second data. The second data includes a first indication of performance of the substrate processing system. The method further includes causing, in view of the second data, performance of a corrective actions associated with the substrate processing system. L'invention concerne un procédé qui comprend la réception, par un dispositif de traitement, de premières données générées par un premier capteur d'un système de traitement de substrat. Les premières données sont générées en réponse au premier capteur recevant un rayonnement électromagnétique provenant d'un substrat maintenu par un bras de robot d'une chambre de transfert dans le système de traitement de substrat. Le procédé consiste en outre à traiter les premières données pour obtenir des secondes données. Les secondes données comprennent une première indication de performance du système de traitement de substrat. Le procédé consiste en outre à provoquer, compte tenu des secondes données, les performances d'une action corrective associée au système de traitement de substrat.