A CONDITIONING SYSTEM, ARRANGEMENT AND METHOD

Disclosed herein is a stand-alone conditioning system for a fluid handling structure of a lithographic apparatus, comprising: an inspection system configured to inspect the fluid handling structure and to determine one or more different types of conditioning to be performed on a major surface of the...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PARK, Sang-Myung, GATTOBIGIO, Giovanni, LAU, Yuk Man
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Disclosed herein is a stand-alone conditioning system for a fluid handling structure of a lithographic apparatus, comprising: an inspection system configured to inspect the fluid handling structure and to determine one or more different types of conditioning to be performed on a major surface of the fluid handling structure; and a conditioning device configured to perform the determined one or more different types of conditioning on the major surface of the fluid handling structure. L'invention concerne un système de conditionnement autonome pour une structure de manipulation de fluides d'un appareil lithographique, le système comprenant : un système d'inspection conçu pour inspecter la structure de manipulation de fluides et pour déterminer un ou plusieurs différents types de conditionnement devant être effectués sur une surface principale de la structure de manipulation de fluides ; et un dispositif de conditionnement conçu pour effectuer le ou les différents types de conditionnement déterminés sur la surface principale de la structure de manipulation de fluides.