PIECEWISE FUNCTIONAL FITTING OF SUBSTRATE PROFILES FOR PROCESS LEARNING
A method includes receiving, by a processing device, data indicative of a plurality of measurements of a profile of a substrate. The method further includes separating the data into a plurality of sets of data, a first set of the plurality of sets associated with a first region of the profile, and a...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | A method includes receiving, by a processing device, data indicative of a plurality of measurements of a profile of a substrate. The method further includes separating the data into a plurality of sets of data, a first set of the plurality of sets associated with a first region of the profile, and a second set of the plurality of sets associated with a second region of the profile. The method further includes fitting data of the first set to a first function to generate a first fit function. The first function is selected from a library of functions. The method further includes fitting data of the second set to a second function to generate a second fit function. The method further includes generating a piecewise functional fit of the profile of the substrate. The piecewise functional fit includes the first fit function and the second fit function.
La présente invention concerne un procédé qui consiste à recevoir, au moyen d'un dispositif de traitement, des données indiquant une pluralité de mesures d'un profil d'un substrat. Le procédé consiste en outre à séparer les données en une pluralité d'ensembles de données, un premier ensemble de la pluralité d'ensembles étant associé à une première région du profil, et un second ensemble de la pluralité d'ensembles étant associé à une seconde région du profil. Le procédé consiste en outre à ajuster des données du premier ensemble à une première fonction pour générer une première fonction d'ajustement. La première fonction est sélectionnée dans une bibliothèque de fonctions. Le procédé consiste en outre à ajuster des données du second ensemble à une seconde fonction pour générer une seconde fonction d'ajustement. Le procédé consiste en outre à générer un ajustement fonctionnel par morceaux du profil du substrat. L'ajustement fonctionnel par morceaux comprend la première fonction d'ajustement et la seconde fonction d'ajustement. |
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