HIGH CONDUCTANCE DIVERT LINE ARCHITECTURE

Exemplary semiconductor processing systems may include a lid plate and a gas splitter. The gas splitter may be seated on the lid plate. The gas splitter may include a top surface and a plurality of side surfaces. The gas splitter may define a gas inlet, a gas outlet, a gas lumen that extends between and fluidly couples the gas inlet with the gas outlet, and a first divert lumen that is fluidly coupled with the gas lumen and that directs gases away from a processing chamber through a divert outlet. The semiconductor processing system may include a first divert weldment. The first divert weldment may extend from and fluidly couple to the divert outlet. The first divert weldment may include a first divert weldment outlet and a second divert weldment outlet. Des systèmes de traitement de semi-conducteurs donnés à titre d'exemple peuvent inclure un couvercle plat et un séparateur de gaz. Le séparateur de gaz peut être placé sur le couvercle plat. Le séparateur de gaz peut inclure une surface supérieure et une pluralité de surfaces latérales. Le séparateur de gaz peut définir une entrée de gaz, une sortie de gaz, une lumière de gaz qui s'étend entre l'entrée de gaz et la sortie de gaz et couple celles-ci de manière fluidique, et une première lumière de déviation qui est couplée de manière fluidique à la lumière de gaz et qui éloigne des gaz d'une chambre de traitement par le biais d'une sortie de déviation. Le système de traitement de semi-conducteurs peut inclure un premier ensemble soudé de déviation. Le premier ensemble soudé de déviation peut s'étendre depuis la sortie de déviation et être couplée de manière fluidique à celle-ci. Le premier ensemble soudé de déviation peut inclure une première sortie d'ensemble soudé de déviation et une seconde sortie d'ensemble soudé de déviation.