NOVEL TECHNIQUES FOR EXAMINATION OF LIGHT OPTICAL ELEMENTS

Examining a light optical element (LOE) may include placing a first slit optically between a projector configured to emit light and the LOE's first major surface and placing a second slit optically between the LOE's second major surface and a detector. Facet parallelism between two facets may be deduced based on a shift of the image reflected from the first facet to the second facet relative to light transmitted normal to the first and second major surfaces through a portion of the substrate not including a facet. Facet refractive index homogeneity or deviation may be deduced based on the light transmitted through the facet relative to light transmitted normal to the first and second major surfaces through a portion of the substrate not including a facet. L'examen d'un élément optique de guidage lumineux (LOE) peut consister à placer une première fente optiquement entre un projecteur configuré pour émettre de la lumière et la première surface principale du LOE et à placer une seconde fente optiquement entre la seconde surface principale du LOE et un détecteur. Un parallélisme de facette entre deux facettes peut être déduit sur la base d'un décalage de l'image réfléchie depuis la première facette jusqu'à la seconde facette par rapport à la lumière transmise perpendiculairement aux première et seconde surfaces principales à travers une partie du substrat ne comprenant pas de facette. L'homogénéité ou l'écart d'indice de réfraction de facette peut être déduit sur la base de la lumière transmise à travers la facette par rapport à la lumière transmise perpendiculairement aux première et seconde surfaces principales à travers une partie du substrat ne comprenant pas de facette.