LASER DEVICE, LASER SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

This laser device includes: a laser chamber connected to a gas circulation system that includes a confluence pipe in which exhaust gases discharged from a plurality of laser devices including a laser device are combined, and that selects one of a new gas containing xenon and a circulating gas flowing through the confluence pipe, and supplies the selected gas to the plurality of laser devices; an exhaust pipe that is connected between the laser chamber and the confluence pipe and in which the exhaust gas exhausted from the laser chamber flows toward the confluence pipe; a fluorine trap that is connected midway along the exhaust pipe and that removes at least fluorine from the exhaust gas exhausted from the laser chamber; and a xenon addition device that is connected midway along the exhaust pipe and that adds, to the exhaust gas exhausted from the laser chamber, an additive gas with a higher xenon concentration than the new gas. Ce dispositif laser comprend : une chambre laser connectée à un système de circulation de gaz qui comprend un tuyau de confluence dans lequel des gaz d'échappement déchargés à partir d'une pluralité de dispositifs laser comprenant un dispositif laser sont combinés, et qui sélectionne un gaz parmi un nouveau gaz contenant du xénon et un gaz circulant s'écoulant à travers le tuyau de confluence, et fournit le gaz sélectionné à la pluralité de dispositifs laser ; un tuyau d'échappement qui est relié entre la chambre laser et le tuyau de confluence et dans lequel le gaz d'échappement évacué de la chambre laser s'écoule vers le tuyau de confluence ; un piège à fluor qui est relié à mi-chemin le long du tuyau d'échappement et qui élimine au moins le fluor du gaz d'échappement évacué de la chambre laser ; et un dispositif d'addition de xénon qui est relié à mi-chemin le long du tuyau d'échappement et qui ajoute, au gaz d'échappement évacué de la chambre laser, un gaz additif ayant une concentration en xénon plus élevée que le nouveau gaz. レーザ装置は、レーザ装置を含む複数のレーザ装置から排出された排出ガスが合流する合流配管を含むガス循環システムであって、キセノンを含む新ガスと、合流配管を流れる循環ガスと、の一方を選択して複数のレーザ装置に供給するガス循環システムに接続されたレーザチャンバと、レーザチャンバと合流配管との間に接続され、レーザチャンバから排出された排出ガスが合流配管へ向けて流れる排出配管と、排出配管の途中に接続され、レーザチャンバから排出された排出ガスから少なくともフッ素を除去するフッ素トラップと、排出配管の途中に接続され、レーザチャンバから排出された排出ガスに新ガスよりも高いキセノン濃度の添加ガスを添加するキセノン添加装置と、を備える。