CONTAMINATION DETERMINATION

A method of determining contamination of an optical sensor of a sensing system in a lithographic apparatus, the method comprising directing EUV radiation through an opening in a reticle masking blade (26) and onto a patterning device, projecting reflected EUV radiation onto the sensing system and thereby causing build-up of an area of contamination, measuring a height of the area of contamination and a height of an area of the sensing system which did not receive the reflected EUV radiation, and using the measured heights to determine an amount of contamination on the optical sensor of the sensing system. L'invention concerne un procédé de détermination de la contamination d'un capteur optique d'un système de détection dans un appareil lithographique, le procédé consistant à diriger un rayonnement EUV à travers une ouverture dans une lame de masquage de réticule (26) et sur un dispositif de formation de motif, à projeter un rayonnement EUV réfléchi sur le système de détection et à provoquer ainsi la formation d'une zone de contamination, à mesurer une hauteur de la zone de contamination et une hauteur d'une zone du système de détection qui n'a pas reçu le rayonnement EUV réfléchi, et à utiliser les hauteurs mesurées pour déterminer une quantité de contamination sur le capteur optique du système de détection.