IMAGING ELLIPSOMETER FOR AN EXTENSIVE LAYER THICKNESS MEASUREMENT OF A SAMPLE, AND METHOD USING AN IMAGING ELLIPSOMETER
Die Erfindung betrifft ein abbildendes Ellipsometer (1) zur flächigen Schichtdickenmessung einer, vorzugsweise zylinderförmigen, Probe (2), mit einer monochromatischen Lichtquelle (3), die derart ausgebildet ist, Licht auf die Probe (2) zu strahlen, einem Polarisator (4), welcher derart ausgebildet...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
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Zusammenfassung: | Die Erfindung betrifft ein abbildendes Ellipsometer (1) zur flächigen Schichtdickenmessung einer, vorzugsweise zylinderförmigen, Probe (2), mit einer monochromatischen Lichtquelle (3), die derart ausgebildet ist, Licht auf die Probe (2) zu strahlen, einem Polarisator (4), welcher derart ausgebildet ist, das von der Lichtquelle (3) ausgestrahlte Licht zu polarisieren, einem winkelselektiven Objektiv (5) und einer Polarisationskamera (6). Die Polarisationskamera (6) weist dabei Polarisationsfilter in 0°-, 45°-, 90°- und 135°-Ausrichtungen auf und ist derart ausgebildet, das von der Lichtquelle (3) ausgestrahlte Licht in lineare Polarisationsorientierungen zu polarisieren und deren jeweiligen Lichtintensitäten zu erfassen und zu messen. Dabei ist eine Viertelwellenplatte (7) zwischen der Probe (2) und der Polarisationskamera (6) zur Änderung der Polarisation des Lichtes angeordnet, welche derart ausgebildet ist, dass sie bestimmte lineare Polarisationsorientierungen des Lichtes in zirkulare Polarisationsorientierungen umwandelt und das Ellipsometer (1) derart ausgebildet ist, ein schichtdickenabhängiges Verhältnis der erfassten Lichtintensitäten durch Gleichungen RZ = (IR-IL) / (IR+IL) und R45 = (I45-I-45) / (I45+I-45) berechnet. Dabei ist IR eine Intensität des Lichtes in der rechts zirkularen Polarisationsorientierung, IL eine Intensität des Lichtes in der links zirkularen Polarisationsorientierung, I45 eine Intensität des Lichtes in der linearen 45° Polarisationsorientierung und I-45 eine Intensität des Lichtes in der linearen 135° Polarisationsorientierung. Ferner, betrifft die Erfindung ein Verfahren mit einem abbildenden Ellipsometer (1).
The invention relates to an imaging ellipsometer (1) for an extensive layer thickness measurement of a sample (2), preferably a cylindrical sample, comprising a monochromatic light source (3) designed to radiate light at the sample (2), a polarizer (4) designed to polarize the light emitted by the light source (3), an angle-selective objective lens (5) and a polarization camera (6). In this case, the polarization camera (6) has polarization filters in 0°, 45°, 90° and 135° alignments and is designed to polarize the light emitted by the light source (3) into linear polarization orientations and to detect and measure the respective luminous intensities thereof. In the process, a quarter wave plate (7) is arranged between the sample (2) and the polarization camera (6) in order to modify the polarization of the light and i |
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