METHOD FOR PRODUCING PATTERNED BASE MATERIAL, CURABLE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING COMPONENT

The present invention provides a method for producing a patterned base material, the method being capable of removing an unintended cured layer, while maintaining a desired pattern mask. The present invention provides a method for producing a patterned base material, the method comprising: a first removal step (A) in which a precursor pattern mask in cured layer composite body, which comprises a base material and the precursor pattern mask that is formed of a cured layer formed on the base material and has a recessed part and a projected part, is processed with a first remover liquid so as to remove at least a part of the cured layer corresponding to the thickness of the cured layer in the recessed part, thereby obtaining a resist composite body which has a specific pattern mask from which the base material positioned in the recessed part is exposed; a surface treatment step (B) in which a surface treatment is performed on the resist composite body via the specific pattern mask, thereby obtaining a surface-treated composite body; and a second removal step (C) in which the specific pattern mask of the surface-treated composite body is removed by means of a second remover liquid, thereby obtaining a patterned base material. With respect to this method for producing a patterned base material, the removal conditions in the first removal step (A) and the removal conditions in the second removal step (C) are different from each other. La présente invention concerne un procédé de production d'un matériau de base à motifs, le procédé étant apte à éliminer une couche durcie involontaire, tout en maintenant un masque de motif souhaité. La présente invention concerne un procédé de production d'un matériau de base à motifs, le procédé comprenant : une première étape d'élimination (A) dans laquelle un masque de motif de précurseur dans un corps composite de couche durcie, qui comprend un matériau de base et le masque de motif de précurseur qui est formé d'une couche durcie formée sur le matériau de base et a une partie évidée et une partie projetée, est traité avec un premier liquide d'élimination de façon à éliminer au moins une partie de la couche durcie correspondant à l'épaisseur de la couche durcie dans la partie évidée, ce qui permet d'obtenir un corps composite de réserve qui a un masque de motif spécifique à partir duquel le matériau de base positionné dans la partie évidée est exposé ; une étape de traitement de surface (B) dans laquelle un traitement de surfa