METHOD AND SYSTEM FOR FINE FOCUSING SECONDARY BEAM SPOTS ON DETECTOR FOR MULTI-BEAM INSPECTION APPARATUS

Systems and methods of measuring of optimizing collection efficiency of secondary charged particles include a multi-beam inspection apparatus (104) configured to scan (226) a sample (230) and including a lens (242), a detector (244) configured to receive a plurality of secondary charged-particle bea...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: JI, Xiaoyu, LIU, Xuedong, HU, Xuerang, REN, Weiming, GONG, Zizhou, KRUPIN, Oleg
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Systems and methods of measuring of optimizing collection efficiency of secondary charged particles include a multi-beam inspection apparatus (104) configured to scan (226) a sample (230) and including a lens (242), a detector (244) configured to receive a plurality of secondary charged-particle beams (236, 238, 240) in response to scanning the sample, and a controller (296) including circuitry communicatively coupled to the multi-beam inspection apparatus and the detector, configured to: focus the lens to adjust sizes of secondary beam spots, wherein the secondary beam spots are formed by the plurality of secondary charged-particle beams on the detector; cause, for each secondary charged-particle beam of the plurality of secondary charged-particle beams, outlier charged particles of the each secondary charged-particle beam to not be detected by the detector; and refocus the lens to adjust currents of a portion of the plurality of secondary charged-particle beams detected by the detector, wherein the outlier charged particles do not contribute to the currents. Systèmes et procédés de mesure de l'optimisation de l'efficacité de collecte des particules chargées secondaires comprenant un appareil d'inspection à faisceaux multiples (104) conçu pour balayer (226) un échantillon (230) et comprenant une lentille (242), un détecteur (244) conçu pour recevoir une pluralité de faisceaux de particules chargées secondaires (236, 238, 240) en réponse au balayage de l'échantillon, et un dispositif de commande (296) comprenant des circuits couplés en communication avec l'appareil d'inspection à faisceaux multiples et le détecteur, conçus pour : mettre au point la lentille pour ajuster la taille des points de faisceau secondaire, les points de faisceau secondaire étant constitués par la pluralité de faisceaux de particules chargées secondaires sur le détecteur; faire en sorte que, pour chaque faisceau de particules chargées secondaires de la pluralité de faisceaux de particules chargées secondaires, les particules chargées aberrantes de chaque faisceau de particules chargées secondaires ne soient pas détectées par le détecteur; et recentrer la lentille pour ajuster les courants d'une partie de la pluralité de faisceaux de particules chargées secondaires détectés par le détecteur, les particules chargées aberrantes ne contribuant pas aux courants.