METROLOGY AND CONTROL SYSTEM

A metrology and control system (100, 400, 500) for a laser beam in an EUV radiation source is disclosed. The system comprises an optical pickup (405, 540, 550) configured to measure a forward beam (410, 510, 520, 530) directed towards a target location (420, 535) and a return beam (415) reflected from the target location. The system also comprises actuatable optical devices (425, 430, 435, 465, 475, 555, 560, 565) configurable to direct and focus the forward beam onto the target location and align a measurement plane of the optical pickup with the target location. The actuatable optical devices are disposed before and after the optical pickup in a path of the forward beam, and the actuatable optical devices are controlled in response to a measurement of the forward beam and the return beam by the optical pickup. Un système de métrologie et de commande (100, 400, 500) pour un faisceau laser dans une source de rayonnement EUV est divulguée. Le système comprend un capteur optique (405, 540, 550) configuré pour mesurer un faisceau avant (410, 510, 520, 530) dirigé vers un emplacement cible (420, 535) et un faisceau de retour (415) réfléchi à partir de l'emplacement cible. Le système comprend également des dispositifs optiques actionnables (425, 430, 435, 465, 475, 555, 560, 565) configurables pour diriger et focaliser le faisceau avant sur l'emplacement cible et aligner un plan de mesure du capteur optique avec l'emplacement cible. Les dispositifs optiques actionnables sont disposés avant et après le capteur optique dans un trajet du faisceau avant, et les dispositifs optiques actionnables sont commandés en réponse à une mesure du faisceau avant et du faisceau de retour par le capteur optique.