SHIELD GAS SUPPLYING DEVICE AND METHOD

Provided are a shield gas supplying device and a method, wherein the device comprises: a first nozzle for spraying a first shield gas along a shield surface at a pre-set first speed; and a second nozzle which is disposed on the outer side of the first nozzle and which is for spraying a second shield...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: TANIGAWA, Shuji, KOMATSU, Yoshinao
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:Provided are a shield gas supplying device and a method, wherein the device comprises: a first nozzle for spraying a first shield gas along a shield surface at a pre-set first speed; and a second nozzle which is disposed on the outer side of the first nozzle and which is for spraying a second shield gas in line with the first shield gas, at a second speed which is slower than the first speed. L'invention concerne un dispositif d'alimentation en gaz de protection et un procédé, le dispositif comprenant : une première buse pour pulvériser un premier gaz de protection le long d'une surface de protection à une première vitesse prédéfinie ; et une deuxième buse qui est disposée sur le côté extérieur de la première buse et qui est destinée à pulvériser un deuxième gaz de protection en ligne avec le premier gaz de protection, à une deuxième vitesse qui est inférieure à la première vitesse. シールドガス供給装置および方法において、シールド面に沿って予め設定された第1速度で第1シールドガスを噴出する第1ノズルと、第1ノズルの外側に配置されて第1シールドガスに沿って第1速度より低速の第2速度で第2シールドガスを噴出する第2ノズルと、を備える。