PLASMA TREATMENT DEVICE

A plasma treatment device of the present disclosure comprises a first and a second plasma treatment device. The first and the second plasma treatment device each comprises: a plasma treatment chamber; a substrate support part; a power consumption member; a ground frame; a power storage unit; a power-receiving coil; and a rectifying/smoothing unit. The ground frame encloses the substrate support part together with the plasma treatment chamber. The power consumption member is disposed in the plasma treatment chamber or in the substrate support part. The power-receiving coil is connected via the rectifying/smoothing unit to the power storage unit in the ground frame. The first and the second plasma treatment device each enable, for the power consumption member thereof, a parallel connection between the power storage unit thereof and the power storage unit of the other plasma treatment device between the first and the second plasma treatment device. Un dispositif de traitement au plasma de la présente invention comprend un premier et un second dispositif de traitement au plasma. Le premier et le second dispositif de traitement au plasma comprennent : une chambre de traitement au plasma ; une partie de support de substrat ; un élément de consommation d'énergie ; un cadre de mise à la terre ; une unité de stockage d'énergie ; une bobine de réception d'énergie ; et une unité de redressement/lissage. Le cadre de mise à la terre entoure la partie de support de substrat conjointement avec la chambre de traitement au plasma. L'élément de consommation d'énergie est disposé dans la chambre de traitement au plasma ou dans la partie de support de substrat La bobine de réception d'énergie est connectée par l'intermédiaire de l'unité de redressement/lissage à l'unité de stockage d'énergie dans le cadre de mise à la terre. Le premier et le second dispositif de traitement au plasma permettent chacun, pour leur élément de consommation d'énergie, une connexion parallèle entre leur unité de stockage d'énergie et l'unité de stockage d'énergie de l'autre dispositif de traitement au plasma situé entre le premier et le second dispositif de traitement au plasma. 開示されるプラズマ処理システムは、第１及び第２のプラズマ処理装置を備える。第１及び第２のプラズマ処理装置の各々は、プラズマ処理チャンバ、基板支持部、電力消費部材、グランドフレーム、蓄電部、受電コイル、整流・平滑部を備える。グランドフレームは基盤支持部をプラズマ処理チャンバと共に囲んでいる。電力消費部材は、プラズマ処理チャンバ内又は基板支持部内に配置されている。受電コイルは、グランドフレーム内の蓄電部に整流・平滑部を介して接続されている。第１及び第２のプラズマ処理装置の各々は、その電力消費部材に対して、その蓄電部と第１及び第２のプラズマ処理装置のうち他のプラズマ処理装置の蓄電部とが並列接続可能であるように構成されている。