MEMBER FOR SEMICONDUCTOR-MANUFACTURING DEVICE
In the present invention, a wafer placement table 10 comprises a gas outflow passage 56, a gas common passage 54, and a gas inflow passage 52. The gas outflow passage 56 is open to a wafer placement surface 21, and a plurality of gas outflow passages are provided to the wafer placement table 10. The...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!