NON-STEP NANOSHEET STRUCTURE FOR STACKED FIELD-EFFECT TRANSISTORS
Embodiments herein include semiconductor structures that may include a first field-effect transistor (FET) stacked above a second FET in a non-step nanosheet structure, and a bottom contact electrically connected to a first bottom source/drain (S/D) of the second FET through a portion of a first top...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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