FILM FORMATION METHOD AND FILM FORMATION DEVICE

[Problem] To improve step coverage of a coating film. [Solution] To use a film formation device equipped with a first electrode, a second electrode, a first power supply source, a second power supply source, and a phase adjuster. The first power supply source includes a first high-frequency power source that outputs first high-frequency power, and a first matching circuit that is connected between the first high-frequency power source and the first electrode. The second power supply source includes a second matching circuit that outputs a second high-frequency power lower than a first high-frequency power with the same period as the first high-frequency power. The second high-frequency power is caused to be output from the second high-frequency power source, and the phase adjuster is operated to provide a phase difference θ to a phase of the first high-frequency power and a phase of the second high-frequency power. A voltage value Vpp of the second high-frequency power and a capacitance value C1 of a first variable capacitor are detected that correspond to the phase difference θ in a state where the output impedance of the second high-frequency power source and the load-side impedance connected to the second high-frequency power source are matched to each other. The voltage value Vpp and the capacitance value C1 are selected in combination in a prescribed range of the phase difference θ. [Problème] Améliorer la couvrance graduelle d'un film de revêtement. [Solution] Utiliser un dispositif de formation de film doté d'une première électrode, d'une seconde électrode, d'une première source d'alimentation, d'une seconde source d'alimentation et d'un dispositif de réglage de phase. La première source d'alimentation comprend une première source de puissance haute fréquence destinée à délivrer une première puissance haute fréquence, et un premier circuit d'adaptation connecté entre la première source de puissance haute fréquence et la première électrode. La seconde source d'alimentation comprend un second circuit d'adaptation destiné à délivrer une seconde puissance haute fréquence inférieure à une première puissance haute fréquence, dotée de la même période que la première puissance haute fréquence. La seconde puissance haute fréquence est amenée à être délivrée par la seconde source de puissance haute fréquence, et le dispositif de réglage de phase est actionné pour fournir une différence de phase θ à une phase de la première puissance haute fréquence et à une p