LITHOGRAPHIC APPARATUS, LOCKING DEVICE, AND METHOD

A lithographic apparatus includes an illumination system to illuminate a pattern of a patterning device, a projection system to project an image of the pattern onto a substrate, a movable stage to support the patterning device or the substrate, a slotted object, and a locking device (700) to prevent a motion of the movable stage. The locking device comprises an actuator (702) and a wheel device (704) comprising a ring feature (708) and coupled to the actuator. The actuator rotates the wheel device about a rotation axis (706). The ring feature has a width (710) defined parallel to the rotation axis. The width is variable with respect to azimuthal direction of the wheel device. The ring feature engages a slot of the slotted object. The rotating adjusts the width of the ring feature within the slot such that a relative motion between the device and the slotted object is prevented. Un appareil lithographique comprend un système d'éclairage servant à éclairer un motif d'un dispositif de formation de motifs, un système de projection servant à projeter une image du motif sur un substrat, une platine mobile servant à supporter le dispositif de formation de motifs ou le substrat, un objet à fentes, et un dispositif de verrouillage (700) servant à empêcher un mouvement de la platine mobile. Le dispositif de verrouillage comprend un actionneur (702) et un dispositif de roue (704) qui comprend un élément annulaire (708) et qui est couplé à l'actionneur. L'actionneur fait tourner le dispositif de roue autour d'un axe de rotation (706). L'élément annulaire a une largeur (710) définie parallèlement à l'axe de rotation. La largeur est variable par rapport à la direction azimutale du dispositif de roue. L'élément annulaire vient en prise avec une fente de l'objet à fentes. La rotation ajuste la largeur de l'élément annulaire à l'intérieur de la fente de telle sorte qu'un mouvement relatif entre le dispositif et l'objet à fentes est évité.