A METHOD FOR MACHINE LEARNING A DETECTION OF AT LEAST ONE IRREGULARITY IN A PLASMA SYSTEM
The invention relates to a method for machine learning a detection of at least one irregularity in a plasma system, particularly an RF powered plasma processing system, comprising: - Providing at least one input signal (210) each related to an analog signal of a power delivery system (1) for the pla...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The invention relates to a method for machine learning a detection of at least one irregularity in a plasma system, particularly an RF powered plasma processing system, comprising: - Providing at least one input signal (210) each related to an analog signal of a power delivery system (1) for the plasma system and/or to another characteristic of the power delivery system (1) and/or of the plasma system, the at least one input signal (210) having at least one irregularity feature indicative of the irregularity in the plasma system, - Performing a machine learning procedure (310) wherein the at least one input signal (210) having the at least one irregularity feature is processed by a programmable circuit (10) to train the detection of the irregularity in the plasma system.
L'invention concerne un procédé d'apprentissage automatique d'une détection d'au moins une irrégularité dans un système à plasma, en particulier un système de traitement par plasma alimenté par radiofréquence, consistant à : - Fournir au moins un signal d'entrée (210) chacun associé à un signal analogique d'un système de distribution d'énergie (1) pour le système à plasma et/ou à une autre caractéristique du système de distribution d'énergie (1) et/ou du système à plasma, l'au moins un signal d'entrée (210) ayant au moins une caractéristique d'irrégularité indicative de l'irrégularité dans le système à plasma, - Effectuer une procédure d'apprentissage automatique (310) l'au moins un signal d'entrée (210) ayant l'au moins une caractéristique d'irrégularité étant traité par un circuit programmable (10) pour entraîner la détection de l'irrégularité dans le système à plasma. |
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