POLYAMIC ACID COMPOSITION, POLYIMIDE PRODUCTION METHOD, LAMINATE PRODUCTION METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD

This polyamic acid composition contains a polyamic acid and an organic solvent. The polyamic acid has a residue including a divalent organic group represented by chemical formula (1), a 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride residue, and a p-phenylene diamine residue. The organic solvent contains at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by general formula (2) and compounds represented by general formula (3). In general formula (2), R1, R2, and R3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group having one or more carbon atoms, and at least one of R1, R2, and R3 represents a monovalent organic group having two or more carbon atoms. In general formula (3), R4 represents a monovalent organic group having two or more carbon atoms. L'invention concerne une composition d'acide polyamique qui contient un acide polyamique et un solvant organique. L'acide polyamique a un résidu comprenant un groupe organique divalent représenté par la formule chimique (1), un résidu dianhydride 3,3',4,4'-biphényl tétracarboxylique, et un résidu p-phénylène diamine. Le solvant organique contient au moins un composé choisi dans le groupe constitué par les composés représentés par la formule générale (2) et les composés représentés par la formule générale (3). Dans la formule générale (2), R1, R2 et R3 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent ayant un ou plusieurs atomes de carbone, et au moins une variable parmi R1, R2 et R3 représente un groupe organique monovalent ayant deux atomes de carbone ou plus. Dans la formule générale (3), R4 représente un groupe organique monovalent ayant deux atomes de carbone ou plus. ポリアミド酸組成物は、ポリアミド酸と有機溶媒とを含む。ポリアミド酸は、下記化学式（１）で表される２価の有機基を含む残基と、３，３'，４，４'－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物残基と、ｐ－フェニレンジアミン残基とを有する。有機溶媒は、下記一般式（２）で表される化合物及び下記一般式（３）で表される化合物からなる群より選択される一種以上の化合物を含む。下記一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立に、水素原子又は炭素原子数１以上の１価の有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のうちの少なくとも１つは、炭素原子数２以上の１価の有機基を表す。下記一般式（３）中、Ｒ４は、炭素原子数２以上の１価の有機基を表す。