PRE-WETTING MODULE AND PRE-WETTING METHOD

With the present invention, a pre-treatment of a substrate is efficiently performed, and also adhesion of air bubbles to a surface to be treated of the substrate is suppressed. This pre-wetting module 200 includes a deaeration tank 210 which is configured to accommodate a deaeration liquid, a cleaning device 260 which is disposed above the deaeration tank 210 and configured to supply a cleaning liquid downward, a substrate holder 220 which is disposed between the deaeration tank 210 and the cleaning device 260 and has a first holding member 222 configured to hold a first substrate WF-1 and a second holding member 224 configured to hold a second substrate WF-2, and a drive mechanism 230 which is configured to rotate and raise/lower the substrate holder 220, wherein the first holding member 222 and the second holding member 224 are configured to be able to hold the first substrate WF-1 and the second substrate WF-2 in such a manner that when a surface to be treated WF-1a of the first substrate WF-1 is tilted with respect to a horizontal plane to face the surface of the deaeration liquid in the deaeration tank 210, a surface to be treated WF-2a of the second substrate WF-2 horizontally faces the cleaning device 260 at the same time. La présente invention permet un prétraitement efficace d'un substrat et évite également l'adhérence de bulles d'air à une surface à traiter du substrat. Ce module de pré-mouillage 200 comprend un réservoir de dégazage 210 qui est conçu pour recevoir un liquide de dégazage, un dispositif de nettoyage 260 qui est disposé au-dessus du réservoir de dégazage 210 et conçu pour envoyer un liquide de nettoyage vers le bas, un support de substrat 220 qui est disposé entre le réservoir de dégazage 210 et le dispositif de nettoyage 260 et qui comporte un premier élément de retenue 222 conçu pour retenir un premier substrat WF-1 et un second élément de retenue 224 conçu pour retenir un second substrat WF-2, et un mécanisme d'entraînement 230 qui est conçu pour tourner et élever/abaisser le support de substrat 220, le premier élément de retenue 222 et le second élément de retenue 224 étant conçus pour pouvoir retenir le premier substrat WF-1 et le second substrat WF-2 de telle sorte que lorsqu'une surface à traiter WF-1a du premier substrat WF-1 est inclinée par rapport à un plan horizontal pour faire face à la surface du liquide de dégazage dans le réservoir de dégazage 210, une surface à traiter WF-2a du second substrat WF-2 fait en même tem