SUBSTRATE SUPPORT AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

A substrate support configured to support a substrate in a lithographic apparatus comprising: a first circumferential wall; a first opening radially outwards of the first circumferential wall and configured to supply and/or extract gas; a second circumferential wall radially outwards of the first opening; a second opening in fluid communication with ambient pressure and radially outwards of the second circumferential wall; a third circumferential wall radially outwards of the second opening; a third opening radially outwards of the third circumferential wall and configured to extract fluid; and a fourth circumferential wall radially outwards of the third opening. Un support de substrat conçu pour supporter un substrat dans un appareil lithographique, celui-ci comprenant : une première paroi circonférentielle ; une première ouverture radialement vers l'extérieur de la première paroi circonférentielle et conçue pour fournir et/ou extraire un gaz ; une deuxième paroi circonférentielle radialement vers l'extérieur de la première ouverture ; une deuxième ouverture en communication fluidique avec la pression ambiante et radialement vers l'extérieur de la deuxième paroi circonférentielle ; une troisième paroi circonférentielle radialement vers l'extérieur de la troisième ouverture ; une troisième ouverture radialement vers l'extérieur de la troisième paroi circonférentielle et conçue pour extraire du liquide ; et une quatrième paroi circonférentielle radialement vers l'extérieur de la troisième ouverture.