METHOD FOR HEATING AN OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL SYSTEM

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein optisches System. Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren wird in das optische Element (200) zur Erzeugung einer thermisch induzierten Deformation eine Heizleistung unter Verwendung eines thermischen Manipulators (210) eingebracht, wobei diese Heizleistung vor Aufnahme eines Betriebs des optischen Systems, in welchem Nutzlicht auf das optische Element trifft, im Hinblick auf einen Sollzustand des optischen Elements eingestellt wird, in welchem eine erste optische Aberration wenigstens teilweise kompensiert wird, und wobei nach Aufnahme des Betriebs des optischen Systems eine Regelung der Heizleistung auf den Sollzustand in Abhängigkeit von der Wärmelast des auf das optische Element treffenden Nutzlichts erfolgt, wobei die Regelung der Heizleistung derart erfolgt, dass die mittlere Temperatur des optischen Elements (200) bis auf eine maximale Abweichung von 0.5 K, insbesondere von maximal 0.2 K, konstant bleibt. The invention relates to: a method for heating an optical element in an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure system; and an optical system. In a method according to the invention, a thermal manipulator (210) is used to introduce a heating power into the optical element (200) in order to produce a thermally induced deformation, wherein, before starting operation of the optical system in which useful light impinges on the optical element, said heating power is adjusted with respect to a desired state of the optical element in which a first optical aberration is at least partially compensated, and wherein, after starting operation of the optical system, the heating power is regulated to the desired state depending on the heat load of the useful light impinging on the optical element, wherein the heating power is regulated in such a way that the average temperature of the optical element (200) remains constant up to a maximum deviation of 0.5 K, in particular 0.2 K at the most. L'invention concerne : un procédé permettant de chauffer un élément optique dans un système optique, en particulier dans un système d'exposition par projection microlithographique ; et un système optique. Dans un procédé selon l'invention, un manipulateur thermique (210) est utilisé pour introduire une puissance de chauffage dans l'élément optique (200) afin de prod