MULTI-WAVELENGTH SHADOWGRAPHY FOR AN EUV RADIATION SOURCE

A metrology system (100, 300, 400) for analyzing fuel at a target location in an EUV radiation source is disclosed. The metrology system comprises at least one radiation-emitting device (105, 110, 115, 305, 310, 315, 405, 410, 415) configured to emit radiation that is directed towards the target location (120, 320, 420). The metrology system also comprises at least one radiation-sensitive device (150, 350, 450) configured to sense radiation from the at least one radiation-emitting device that has passed through fuel at the target location. The at least one radiation-emitting device is configured to emit radiation of at least two different wavelengths. A radiation source (SO) for an EUV lithography apparatus, and a method of analyzing a fuel at a target location in such an EUV radiation source are also disclosed. La présente invention concerne un système de métrologie (100, 300, 400) permettant d'analyser le combustible à un emplacement cible dans une source de rayonnement EUV. Le système de métrologie comprend au moins un dispositif émetteur de rayonnement (105, 110, 115, 305, 310, 315, 405, 410, 415) conçu pour émettre un rayonnement dirigé vers l'emplacement cible (120, 320, 420). Le système de métrologie comprend également au moins un dispositif sensible au rayonnement (150, 350, 450) conçu pour détecter le rayonnement de l'au moins un dispositif émetteur de rayonnement ayant traversé le combustible à l'emplacement cible. L'au moins un dispositif d'émission de rayonnement est conçu pour émettre un rayonnement d'au moins deux longueurs d'onde différentes. Une source de rayonnement (SO) pour un appareil de lithographie EUV, et un procédé d'analyse d'un combustible à un emplacement cible dans une telle source de rayonnement EUV sont également divulgués.