CLEANING BRUSH FOR SEMICONDUCTOR FABRICATION PROCESS

A cleaning brush for a semiconductor fabrication process is provided. The cleaning brush includes a core and a brush member. The core includes a circumferential portion and a closed end portion. The circumferential portion surrounds a rotation axis of the cleaning brush and defines an inlet opening for receiving a fluid. The closed end portion is connected to an end of the circumferential portion that is opposite to the inlet opening along the rotation axis. At least one elongated conduit is defined within the core and fluidly communicated with the inlet opening, and the circumferential portion includes a plurality of outlet channels passing therethrough to fluidly communicate with the elongated conduit, the outlet channels being tilted outwardly toward the closed end portion. The brush member is connected to an outer surface of the circumferential portion and covers all of the outlet channels. L'invention concerne une brosse de nettoyage destinée à un processus de fabrication de semi-conducteurs. La brosse de nettoyage comprend une partie centrale et un élément brosse. La partie centrale comprend une partie circonférentielle et une partie d'extrémité fermée. La partie circonférentielle entoure un axe de rotation de la brosse de nettoyage et définit une ouverture d'entrée permettant de recevoir un fluide. La partie d'extrémité fermée est reliée à une extrémité de la partie circonférentielle opposée à l'ouverture d'entrée le long de l'axe de rotation. Au moins un conduit allongé est défini à l'intérieur de la partie centrale et en communication fluidique avec l'ouverture d'entrée, et la partie circonférentielle comprend une pluralité de canaux de sortie la traversant pour communiquer de manière fluidique avec le conduit allongé, les canaux de sortie étant inclinés vers l'extérieur vers la partie d'extrémité fermée. L'élément brosse est relié à une surface externe de la partie circonférentielle et recouvre tous les canaux de sortie.