CONTROLLING LIGHT SOURCE WAVELENGTHS FOR SELECTABLE PHASE SHIFTS BETWEEN PIXELS IN DIGITAL LITHOGRAPHY SYSTEMS

A digital lithography system may adjust a wavelength of the light source to compensate for tilt errors in micromirrors while maintaining a perpendicular direction for the reflected light. Adjacent pixels may have a phase shift that is determined by an optical path difference between their respective light beams. This phase shift may be preselected to be any value by generating a corresponding wavelength at the light source based on the optical path difference. To generate a specific wavelength corresponding to the desired phase shift, the light source may produce multiple light components that have wavelengths that bracket the wavelength of the selected phase shift. The intensities of these components may then be controlled individually to produce an effect that approximates the selected phase shift on the substrate. Un système de lithographie numérique peut ajuster une longueur d'onde de la source de lumière pour compenser des erreurs d'inclinaison dans des micromiroirs tout en maintenant une direction perpendiculaire pour la lumière réfléchie. Des pixels adjacents peuvent présenter un décalage de phase qui est déterminé par une différence de trajet optique entre leurs faisceaux lumineux respectifs. Ce décalage de phase peut être présélectionné de façon à avoir n'importe quelle valeur en générant une longueur d'onde correspondante au niveau de la source de lumière sur la base de la différence de trajet optique. Pour générer une longueur d'onde spécifique correspondant au décalage de phase souhaité, la source de lumière peut produire de multiples composantes de lumière qui ont des longueurs d'onde qui prennent en fourchette la longueur d'onde du décalage de phase sélectionné. Les intensités de ces composantes peuvent ensuite être régulées individuellement pour produire un effet qui s'approche du décalage de phase sélectionné sur le substrat.