GAS FLOW ADJUSTMENT DEVICE
A gas flow adjustment device that includes a housing defining a first opening configured to receive gas and a second opening aligned with the first opening. The second opening is configured to deliver the gas from the housing. The device includes a circular plate rotatably disposed in the housing. T...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A gas flow adjustment device that includes a housing defining a first opening configured to receive gas and a second opening aligned with the first opening. The second opening is configured to deliver the gas from the housing. The device includes a circular plate rotatably disposed in the housing. The circular plate defines a cutout selectively aligned with each of the first opening and the second opening to define a gas flow path. The device also includes a rotatable member engaged with the circular plate. The rotatable member is configured to: (a) rotate the circular plate about an axis of the circular plate; and (b) adjust a volume of gas flowing across the circular plate and along the gas flow path.
Un dispositif de réglage de flux de gaz qui comprend un boîtier définissant une première ouverture conçue pour recevoir du gaz et une seconde ouverture alignée avec la première ouverture. La seconde ouverture est conçue pour distribuer le gaz à partir du boîtier. Le dispositif comprend une plaque circulaire disposée de manière rotative dans le boîtier. La plaque circulaire définit une découpe alignée sélectivement avec chacune de la première ouverture et de la seconde ouverture pour définir un trajet d'écoulement de gaz. Le dispositif comprend également un élément rotatif en prise avec la plaque circulaire. L'élément rotatif est conçu pour : (a) faire tourner la plaque circulaire autour d'un axe de la plaque circulaire ; et (b) ajuster un volume de gaz s'écoulant à travers la plaque circulaire et le long du trajet du flux de gaz. |
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