METHOD OF OPTIMIZING MAINTENANCE OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS

Disclosed is a method of optimizing maintenance of a lithographic apparatus. The method comprises obtaining productivity data relating to a productivity of a lithographic apparatus and error metric data relating to the effect of a maintenance action on exposure performance. The productivity data and error metric data is used to determine such that a loss of productivity metric is reduced or minimized, one or both of: a number of layers to ramp down in production of integrated circuits prior to the maintenance action on the lithographic apparatus, said layers being lithographically exposed on each of a plurality of substrates using the lithographic apparatus; and/or a maintenance schedule metric relating to the frequency of performance of said maintenance action. L'invention concerne un procédé d'optimisation de la maintenance d'un appareil lithographique. Le procédé consiste à obtenir des données de productivité relatives à la productivité d'un appareil lithographique et des données de métrique d'erreur relatives à l'effet qu'a une action de maintenance sur les performances d'exposition. Les données de productivité et les données de métrique d'erreur sont utilisées pour déterminer, dans le but de réduire en partie ou au maximum une perte de métrique de productivité, au moins l'un des éléments suivants : un nombre de couches à diminuer dans la production de circuits intégrés avant que l'action de maintenance ne soit effectuée sur l'appareil lithographique, lesdites couches étant exposées par lithographie sur chacun d'une pluralité de substrats à l'aide de l'appareil lithographique; et/ou une métrique de programme de maintenance relative à la fréquence à laquelle ladite action de maintenance est effectuée.