LITHOGRAPHIC APPARATUS AND ASSOCIATED METHODS

A lithographic apparatus comprises: a plurality of optical elements defining an optical path; a first body; a second body; and a voltage supply. The lithographic apparatus may be an extreme ultraviolet (EUV) lithographic apparatus. The plurality of optical elements defining the optical path are arranged to receive a radiation beam, project the radiation beam onto a reticle so as to pattern the radiation beam and to form an image of the reticle on a substrate. The first body and second body are proximate to the optical path. The voltage supply is arranged to apply a potential difference across the first and second bodies. In particular, the first body, the second body and/or the voltage supply are arranged so as to control a flux and/or energy distribution of ions incident on the first body from a plasma formed in the optical path by the radiation beam. Un appareil lithographique comprend : une pluralité d'éléments optiques définissant un trajet optique ; un premier corps ; un second corps ; et une alimentation en tension. L'appareil lithographique peut être un appareil lithographique à ultraviolets extrêmes (EUV). La pluralité d'éléments optiques définissant le trajet optique sont disposés de façon à recevoir un faisceau de rayonnement, à projeter le faisceau de rayonnement sur un réticule afin de former un motif sur le faisceau de rayonnement, et à former une image du réticule sur un substrat. Le premier corps et le second corps se trouvent à proximité du trajet optique. L'alimentation en tension est conçue pour appliquer une différence de potentiel dans les premier et second corps. En particulier, le premier corps, le second corps et/ou l'alimentation en tension sont disposés de façon à commander un flux et/ou une distribution d'énergie d'ions incidents sur le premier corps à partir d'un plasma formé dans le trajet optique par le faisceau de rayonnement.