APPARATUS AND METHODS TO PROMOTE WAFER EDGE TEMPERATURE UNIFORMITY

A shadow ring for a processing chamber, such as a semiconductor processing chamber, is an annular member including a body with a radially inwardly projecting lip. The shadow ring includes a feature that mitigates heat transfer between the lip and the rest of the body. In one example, the feature includes a plurality of apertures, each aperture extending from an upper opening at an upper surface of the shadow ring to a corresponding lower opening at a lower surface of the shadow ring. A neck between adjacent apertures creates a bottleneck that hinders conductive heat transfer. L'invention concerne une bague d'ombre qui est destinée à une chambre de traitement, telle qu'une chambre de traitement de semi-conducteur, et qui est un élément annulaire comprenant un corps avec une lèvre faisant saillie radialement vers l'intérieur. La bague d'ombre comprend un élément qui atténue le transfert de chaleur entre la lèvre et le reste du corps. Dans un exemple, l'élément comprend une pluralité d'ouvertures dont chacune s'étend d'une ouverture supérieure au niveau d'une surface supérieure de la bague d'ombre jusqu'à une ouverture inférieure correspondante au niveau d'une surface inférieure de la bague d'ombre. Un col entre des ouvertures adjacentes crée un goulot d'étranglement qui entrave le transfert de chaleur conducteur.