IN-SITU LOW TEMPERATURE MEASUREMENT OF LOW EMISSIVITY SUBSTRATES

A system for degassing substrates provides reduced infrared sources in a degas chamber. In some embodiments, the system includes a degas chamber with a microwave source and an infrared temperature sensor positioned in a bottom of the degas chamber, at least one hoop with an annular shape that is configured to support or lift a substrate and is formed from at least one first material that is opaque to microwaves and has an emissivity of 0.1 or less, and at least one actuator with a movable vertical shaft. Each of the at least one actuator is attached under one of the hoops at an outer perimeter of the hoop. The portion of the movable vertical shaft that is exposed to microwaves from the microwave source in the degas chamber is formed from at least one second material that is opaque to microwaves and has an emissivity of 0.1 or less. Un système de dégazage de substrats utilise des sources d'infrarouges réduites dans une chambre de dégazage. Selon certains modes de réalisation, le système comprend une chambre de dégazage comportant une source de micro-ondes et un capteur de température infrarouge positionné dans une partie inférieure de la chambre de dégazage ; au moins un cadre prenant une forme annulaire, conçu pour porter ou soulever un substrat et formé à partir d'au moins un premier matériau qui est opaque aux micro-ondes et qui présente une émissivité égale ou inférieure à 0,1 ; et au moins un actionneur doté d'un arbre vertical mobile. Chacun du ou des actionneurs est fixé sous l'un des cadres au niveau d'un périmètre externe du cadre. La partie de l'arbre vertical mobile exposée aux micro-ondes émanant de la source de micro-ondes dans la chambre de dégazage est formée à partir d'au moins un second matériau qui est opaque aux micro-ondes et qui présente une émissivité égale ou inférieure à 0,1.