PLASMA TREATMENT DEVICE AND PLASMA TREATMENT METHOD

Disclosed is a plasma treatment device comprising a chamber, a substrate support unit, one or more high frequency power supplies, and a correction power supply. The one or more high frequency power supplies are configured to supply one or more forms of high frequency power to the chamber in an ON period in which the plasma is generated from a gas in the chamber. The correction power supply is configured to apply a negative voltage to an edge ring in one or more first periods within the ON period. Each of the one or more first periods corresponds to a plurality of the longest waveform periods among waveform periods of the one or more forms of high frequency power. The correction power supply is configured to stop the application of the negative voltage to the edge ring in one or more second periods within the ON period. Each of the one or more second periods corresponds to a plurality of the longest waveform periods. L'invention concerne un dispositif de traitement par plasma comprenant une chambre, une unité de support de substrat, une ou plusieurs alimentations électriques haute fréquence et une alimentation électrique de correction. La ou les alimentations électriques haute fréquence sont configurées pour fournir une ou plusieurs formes de puissance haute fréquence à la chambre dans une période de marche dans laquelle le plasma est généré à partir d'un gaz dans la chambre. L'alimentation électrique de correction est configurée pour appliquer une tension négative à un anneau de bord dans une ou plusieurs premières périodes pendant la période de marche. Chacune de la ou des premières périodes correspond à une pluralité des périodes de forme d'onde les plus longues parmi des périodes de forme d'onde de la ou des formes de puissance haute fréquence. L'alimentation électrique de correction est configurée pour arrêter l'application de la tension négative à l'anneau de bord dans une ou plusieurs secondes périodes pendant la période de marche. Chacune de la ou des secondes périodes correspond à une pluralité des périodes de forme d'onde les plus longues. 開示されるプラズマ処理装置は、チャンバ、基板支持部、一つ以上の高周波電源及び補正電源を含む。一つ以上の高周波電源は、チャンバ内でガスからプラズマを生成するＯＮ期間において一つ以上の高周波電力をチャンバに供給するように構成されている。補正電源は、ＯＮ期間内の一つ以上の第１の期間において、負の電圧をエッジリングに印加するように構成されている。一つ以上の第１の期間の各々は、一つ以上の高周波電力の波形周期のうち最長の波形周期の複数回分に相当する。補正電源は、ＯＮ期間内の一つ以上の第２の期間において、エッジリングへの負の電圧の印加を停止するように構成されている。一つ以上の第２の期間の各々は、最長の波形周期の複数回分に相当する。